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本篇文章跟大家分享線面圖標設(shè)計制作解析，希望對大家有所幫助！

一、線面圖標組合基礎(chǔ)

在介紹線面圖標的設(shè)計樣式前，我們要先來了解一下線面圖標的組合基礎(chǔ)，根據(jù)這些基礎(chǔ)知識我們能更好地理解下面介紹的設(shè)計樣式，也許還能自己超創(chuàng)出新的設(shè)計樣式。

1.面的比例

線面圖標在組合時，面所占比例大致有三種情況：小比例、大比例、全比例。

小比例的線面圖標本身色塊與背景色能形成一定的對比，豐富層次；大比例的線面圖標可以很好的將高光表現(xiàn)出來；全比例的線面圖標通過色彩的變化可以做出更加復(fù)雜的插畫圖標。

2.面的位置

線面圖標造型時，色塊面的位置大致也有四種情況：色塊面包含在線條內(nèi)部、色塊面與線條交叉錯開、色塊面與線條有交集拼接、色塊面與線條無交集拼接。

了解線面圖標的基礎(chǔ)知識后，不知道你有沒有發(fā)現(xiàn)，其實線面圖標造型的重點就是線面位置關(guān)系以及面的多少，在這兩點的基礎(chǔ)上線與面本身的設(shè)計樣式完全可以參照線性圖標與面型圖標。

二、線包含面

線包含面，色塊面位于線條內(nèi)部，與線條沒有分離，根據(jù)面的所占比例分為部分包含以及全包含。

1.部分包含

線面圖標本身只有部分充滿色塊，如下圖：

這是一種常見的線面圖標，色塊面采用主題色，線條采用深黑色系。除了以上這種，再為大家舉幾種常見的處理方式。

線面不透明度改變

線條與色塊面采用同一色彩，部分色塊面降低不透明度與線條色彩形成差異，整體風(fēng)格清新簡約，并不會有線面圖標刻板的可愛風(fēng)格。

在這個基礎(chǔ)上可以對線條進行同色系的漸變處理，又是一種新的效果，如下圖：

多色色塊

色塊面采用多個色彩，線條采用深黑色系。比起單一色塊，更加豐富，色彩面面積更廣。

色彩漸變

色塊面采用多色彩漸變，是一種較常規(guī)的面型處理方式，也能使線面圖標整體更加豐富。

不透明度漸變

色塊面采用漸變色，一側(cè)色彩不透明度100%，一側(cè)色彩不同明度調(diào)至0~20%，比起純色色彩漸變，變化更加清新明快。

2.全包含

線面圖標的內(nèi)部面全包含色塊，色塊面的處理方式與部分包含區(qū)別不大（可以自己動手試試用部分包含面的處理方式繪制），這里主要介紹扁平線面插畫圖標以及MBE風(fēng)格線面圖標。

1）扁平線面插畫圖標

圖標造型相對復(fù)雜，會將圖形的細節(jié)表現(xiàn)出來，適合繪制有實物參考的圖形，常用在徽章、頭圖banner等偏向強視覺的運營處。

圖標參考實物進行線稿繪制后，對不同位置進行色彩填充，可以通過深色陰影以及白色高光增加圖標的厚度。

2）MBE線面圖標

MBE圖標是線面圖標中非常具有辨識度的一種風(fēng)格，最大的特點就是采用斷點線條，用色明亮并搭配一些簡單幾何做點綴。

三、線面分離

線與面分離開，根據(jù)線面分離的位置可以分為線條內(nèi)部分離、外部錯位以及拼接線面。

1.線條內(nèi)部分離

線條圖形內(nèi)部色塊面與線條分離，常見的處理方式有縮小內(nèi)部面、內(nèi)錯高光、內(nèi)部面型圖形。

1）縮小內(nèi)部面

將線面分離，并縮小內(nèi)部色塊面與外部線條形成一定的間距，如下圖：

2）內(nèi)錯高光

內(nèi)部色塊面通過布爾運算錯位與外部線條形成一個空白高光，對于規(guī)則的形狀可以直接通過形狀繪制。

3）內(nèi)部面型圖形

在線型圖標的基礎(chǔ)上，內(nèi)部采用色塊面增加一個圖形，可以將圖標本身內(nèi)部圖形改成面型色塊，也可以在圖標內(nèi)部增加一個規(guī)則色塊面，如下圖：

2.外部錯位

線條圖形色塊面與線條錯位分離，常見的處理方式有規(guī)則圖形錯位、圖標形狀錯位。

1）規(guī)則圖形錯位

在線性圖標的基礎(chǔ)上，在底層增加一個規(guī)則圖形（圓、矩形等）的色塊面形成錯位感，色塊面可根據(jù)面型圖標樣式進行各種嘗試，常見的如純色色塊、漸變色塊、不透明漸變色塊等。

2）圖標形狀錯位

線面圖標的線與色塊面直接分離并錯位交叉，一般會選擇將色塊面置于線條下部留出錯位感。

3.拼接線面

線條圖形與色塊面共同拼接形成完整的圖標，常見的處理方式有：有交集線面拼接、無交集線面拼接。

1）有交集線面拼接

圖標一半采用線條繪制，一半采用面型繪制，且線條與面有交集。這種拼接風(fēng)格較個性化，色塊面常常用色彩漸變添加。

2）無交集線面拼接

圖標一部分采用線條繪制，一部分采用面型繪制，且面與線之間沒有交集。與斷點線性圖標原理相似，不過將線與線斷點的一部分線型形狀改成了面型，如下圖：

劃重點

線面圖標的設(shè)計重點在于線面位置的改變以及面的所占比，在這兩點的基礎(chǔ)上線與面本身的設(shè)計樣式完全可以參照線性圖標與面型圖標。

常見的面占比大?。盒”壤?、大比例、全比例。

常見的線面位置：色塊面包含在線條內(nèi)部、色塊面與線條交叉錯開、色塊面與線條有交集拼接、色塊面與線條無交集拼接。

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